Dobkin, D. M., & Zuraw, M. K. (2003). Principles of chemical vapor deposition. Kluwer Academic Publishers.
Chicago Style (17. basım) AtıfDobkin, Daniel Mark, ve Michael K. Zuraw. Principles of Chemical Vapor Deposition. Dordrecht ; Boston: Kluwer Academic Publishers, 2003.
MLA (9th ed.) AtıfDobkin, Daniel Mark, ve Michael K. Zuraw. Principles of Chemical Vapor Deposition. Kluwer Academic Publishers, 2003.
Uyarı: Bu alıntı herzaman %100 doğru olmayabilir..