Principles of chemical vapor deposition /

Bibliographic Details
Main Author: Dobkin, Daniel Mark
Other Authors: Zuraw, Michael K.
Format: Book
Language:English
Published: Dordrecht ; Boston : Kluwer Academic Publishers, 2003.
Subjects:
Vapor-plating.
Buhar-kaplama.
Chemical engineering.
Kimya mühendisliği.
Nuclear physics.
Nükleer fizik.
Online Access:View in OPAC
Description
Item Description:Dizin : 271-273 sayfa.
Physical Description:xi, 273 sayfa : şekil ; 25 cm.
Bibliography:Kaynakça bölüm sonlarındadır.
ISBN:9781402012488

Similar Items